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Intel planea una planta de 45 nanómetros para el próximo año

Esta tecnología permitirá computadores más eficientes tanto en procesamiento como en consumo.

Por Stephen Lawson

IDG News Service (Oficina de San Francisco)

SAN FRANCISCO (01/25/2006) – Intel Corp. entrará a la siguiente era de la Ley de Moore en la segunda mitad de 2007 con el envío comercial de sus primeros procesadores para PC basados en el proceso de producción de 45 nanómetros, dijo la compañía el miércoles.

Intel exhibió lo que ella llama el primer chip SRAM (static RAM) completamente funcional del mundo hecho con un proceso tecnológico de 45 nm. Tiene más de mil millones de transistores, de acuerdo con el comunicado de la compañía. Como otros chips de prueba. Este funciona como SRAM, pero incluye todos los elementos de ub procesador de múltiple núcleo, dijo el portavoz John Casey. No pretende ser un producto Intel, pues es sólo para demostrar que la compañía puede construir un procesador con la tecnología de próxima generación, dijo.

Un nanómetros es una millonésima de milímetro y cada tecnología para producción de chips es medida por el tamaño de su característica más pequeña con la que se puede producir un chip. Con el proceso de producción de 45 nanómetros, Intel puede hacer procesadores con cinco veces menos escape de energía que los procesadores actuales, dijo Intel, y como resultado, permitirá PCs con un desempeño más alto por vatio. La tecnología para producción más avanzada de la compañía es de 65 nm en la actualidad, la cual salió a producción comercial en el cuarto trimestre del año pasado. Intel se mueve hacia un nuevo proceso de generación cada dos años, dijo la compañía.

La Ley de Moore acuñada por el cofundador de Intel, Gordon Moore, declara que el número de transistores en un chip se dobla cada 18 meses.

Los chips estarán hechos en obleas grandes de 300 milímetros, dijo Intel. Esas obleas entregan un mayor volumen y un costo más bajo por cada chip que las obleas pequeñas. El trabajo inicial de la compañía en la producción de los 45nm está tomando lugar en su planta de fabricación o “fab” D1D, en Oregon. También está construyendo dos plantas más para la producción de 45 nm, Fab 32 en Arizona y Fab 28 en Israel, dijo la compañía.

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