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Chile brilló en Epson NY Fashion Week 2015

El diseñador Marco Antonio Farías, deslumbró en el evento “Digital Couture Project – Epson NY Fashion Week 2015”, desarrollado por la marca japonesa, líder en imagen digital e innovación, por su alto nivel de profesionalismo en la creación de su colección, con innovadores diseños, y seductoras propuestas de moda sublimada.

A pocas semanas de la llegada  deldiseñador nacional, Marco Antonio Farías a nuestro país, desde Nueva York, donde representó a EpsonChile en el evento de Epson NY Fashion Week 2015 obtuvo un gran reconocimiento de los máximos ejecutivos de Epson América, por su destacada participación en el evento, ya que sus diseños – creados con la tecnología de sublimación – causaron gran impacto e interés en la prensa internacional y los invitados asistentes.

“Estamos muy contentos con el resultado de meses de trabajo, fueron muchos los diseñadores que se interesaron en participar del concurso y lógicamente en conocer e implementar esta nueva tecnología. Particularmente siento que Marco Antonio se lució con sus creaciones en New York y dejó muy bien parado al diseño local. Llevó al máximo las posibilidades de nuestras impresoras de sublimación de Serie F. Para Epson, este acercamiento al mundo de la moda es el primero de muchos y espero que en el corto plazo podamos continuar desarrollando este tipo de actividades con la industria”, afirmó Juan Sebastián Morales, Product Manager LFP de Epson Chile.

El certamen se realizó durante la Semana de la Moda en New York, el evento más prestigioso de la moda a nivel mundial, y participaron 11 diseñadores de distintos países de Latinoamérica, quienes incursionaron en esta revolucionaria tecnología para crear nuevos estilos e hitos en la moda.

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La muestra se llevó a cabo en “Industria Superstudios”, un mítico estudio neoyorkino referente de creatividad, moda y fashion trends, y contó con la presencia de miembros destacados de la prensa internacional, élite del mundo de la moda, farándula y socialité neoyorquino. Los asistentes pudieron presenciar nutridos diseños que desafían los estándares y buscan la oportunidad de imponerse como la nueva tendencia de moda de las pasarelas más importantes del mundo.

Para el diseñador Marco Antonio Farías, la experiencia vivida fue mágica,  como un sueño, “fuimos presentados como la nueva era de diseñadores latinoamericanos y el público quedó fascinado con nuestras colecciones. Para Chile esa fue su noche, ya que nuestra colección logró llamar la atención y recibir las felicitaciones de los asistentes. Mis trajes exhibieron un juego de colores maravillosos y se corroboró que si se aplica correctamente la técnica de sublimación, se logra un vestuario de alta calidad y único. Estoy muy agradecido por el recibimiento de los ejecutivos de Epson en Nueva York y esta experiencia ha sido una importante plataforma para desarrollar mi carrera internacional”.

Las prendas fueron elaboradas con diversos materiales, donde se incluyeron piezas sublimadas con impresoras SureColor Serie F de Epson, (F por “fashion forward”, “moda vanguardista”),línea de alta velocidad y bajo costo que brinda imágenes nítidas y brillantes, colores vivos, tonos intensos de negro y gradaciones suaves en telas. Estos equipos utilizan un cabezal micropiezo de Epson de alta resolución y tinta de sublimación Epson y pueden llegar a imprimir velocidades de hasta 57 metros cuadrados por hora e incluyen un sistema integral de tinta continuo de 1,5 litros de capacidad; la solución digital incluye además papel original Epson y un software Wasatch, desarrollados exclusivamente para lograr una permanencia del color en el tiempo, y la capacidad de producir 24 horas al día.

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